Polytec線上交流會(huì)之MEMS測(cè)試案例與解決方案
發(fā)布日期：2020-03-31 10:48:17
為了在疫情期間與大家交流MEMS測(cè)試案例與解決方案，Polytec計(jì)劃開展線上交流會(huì)，具體信息如下：
會(huì)議時(shí)間：
2020年4月15日(周三)10：00-11：00
會(huì)議主題：
1. MEMS光學(xué)測(cè)試主要應(yīng)用領(lǐng)域案例交流，包括慣性傳感器三維測(cè)量、PMUTs指紋識(shí)別、SAW微流體操控等...
2. 最新的MEMS光學(xué)測(cè)試解決方案，包括超高頻掃描測(cè)試、MEMS器件封裝狀態(tài)下的測(cè)試。
參加方式：
本次會(huì)議采用Go to meeting 在線會(huì)議的方式，網(wǎng)上報(bào)名后我們將發(fā)送會(huì)議鏈接，直接點(diǎn)擊連接或者打電話參加。Go to meeting無(wú)需注冊(cè)，可以選擇下載軟件或者直接使用Web版。
主講人：
董 寧 Polytec技術(shù)經(jīng)理
技術(shù)支持：
Chris Chia Polytec總部專家
議程:
09:50： GoToMeeting 在線會(huì)議開始
10:00： MEMS應(yīng)用介紹
10:25： MEMS光學(xué)測(cè)試解決方案介紹
10:50： 問答環(huán)節(jié)
11:00： 結(jié)束
在線注冊(cè)地址：
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